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超薄均熱器件清洗劑-羽杰科技SLJ-C2120

羽杰科技SLJ-C2120超薄均熱器件清洗劑具備強大的去污能力,能夠迅速瓦解并清除均熱器件表面因各類污垢。無論是灰塵、油污,還是因高溫產生的氧化物,該清洗劑都能精準出擊,實現(xiàn)深度清潔。在超聲清洗清洗過程中,清洗劑中的活性成分可快速滲透到污垢與器件表面的微小縫隙中,將污垢從器件表面剝離,清洗后不會出現(xiàn)白點、變色、發(fā)白等腐蝕現(xiàn)象,全方位守護均熱器件的物理性能與外觀完整性。

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鋁散熱器松香助焊劑清洗劑-工業(yè)清洗解決方案

羽杰科技MLJ2506鋁散熱器清洗劑是一款專為鋁制散熱器及電子元件松香助焊劑殘留設計的高效水性清洗劑。憑借其獨特的配方和環(huán)保特性,該產品在工業(yè)清洗領域迅速嶄露頭角,尤其適用于汽車散熱器、電子電路板(PCBA)等場景,能快速溶解頑固污垢、松香樹脂及氧化物殘留,同時兼顧設備保護與環(huán)保要求。

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新能源電機外殼清洗劑MLJ-3383:羽杰科技環(huán)保型替代傳統(tǒng)碳氫溶劑

隨著新能源汽車、風力發(fā)電等產業(yè)的爆發(fā)式增長,電機外殼表面油污、金屬粉塵的清潔需求激增。傳統(tǒng)碳氫清洗劑因高VOC排放、難降解等問題,已無法滿足"雙碳"政策下的環(huán)保要求。羽杰科技自主研發(fā)的MLJ-3383新能源電機外殼專用清洗劑,以可生物降解配方+高效除油除灰性能,正在成為工業(yè)清洗領域的革新解決方案。

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羽杰科技MLJ-3388生物降解型噴淋清洗劑

傳統(tǒng)工業(yè)清洗劑普遍存在含磷含氮化合物超標、COD值超5000mg/L等問題,導致廢水處理成本高。隨著《中國清潔生產促進法》新規(guī)實施,2025年起高污染清洗劑將被限制使用。羽杰科技MLJ-3388噴淋清洗劑通過水基配方+生物酶催化技術,實現(xiàn)清洗廢水的COD值≤800mg/L,生物降解率達95.3%(OECD 301B標準)。

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羽杰科技MLJ-2508光刻膠清洗劑:國產替代新突破,5大核心技術助力芯片良率提升

在半導體制造工藝中,光刻膠殘留清洗直接關系到芯片的良品率。傳統(tǒng)清洗劑存在清洗效率低(<85%)、晶圓損傷率高(≥0.3%)等問題。羽杰科技MLJ-2508光刻膠清洗劑專為28nm以下先進制程設計,經實驗室驗證,清洗效率達98.7%,殘留量控制在0.01μm2/片以內。核心技術優(yōu)勢解析。

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羽杰科技光刻膠清洗劑MLJ-2508D:精準高效,賦能半導體制造新標準

羽杰科技MLJ-2508D是一款專為半導體及精密電子行業(yè)研發(fā)的高效光刻膠清洗劑,采用創(chuàng)新配方與技術,適用于正負光刻膠的快速剝離與殘留物清除。其核心成分融合PGMEA(丙二醇甲醚醋酸酯)、飽和環(huán)醚及高分子螯合劑,結合氮雜冠醚添加劑,顯著提升清洗效率與工藝兼容性,助力晶圓制造與微電子加工的精細化生產

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水基防銹清洗劑MLJ-3384L:環(huán)保高效的多功能工業(yè)清洗解決方案

羽杰科技MLJ-3384L水基防銹清洗劑是一款專為現(xiàn)代工業(yè)設計的高效環(huán)保型清洗劑,集強力去污、長效防銹、綠色安全于一體。該產品采用創(chuàng)新水基配方,可替代傳統(tǒng)溶劑型清洗劑(如白電油、三氯乙烯),廣泛應用于精密五金、汽車配件、電子元件、航空航天等領域,滿足RoHS、REACH等國際環(huán)保標準。

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反應釜清洗劑!使用專業(yè)反應釜清洗劑,讓設備恢復出廠

羽杰科技MLJ1023反應釜清洗劑是一款專為工業(yè)反應釜、熱交換器、管道系統(tǒng)等設備設計的高效環(huán)保型清洗劑。該產品基于羽杰科技在環(huán)保設備研發(fā)領域的核心技術,結合低溫蒸發(fā)與生物降解技術,可高效清除反應釜內壁及管道的油焦、結焦垢、炭化垢及微生物粘泥,同時確保清洗過程無污染、低能耗,符合國際環(huán)保標準。

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羽杰科技碳鋼防銹劑:高效防銹,守護金屬品質

在工業(yè)生產和日常生活中,金屬材料的防銹問題一直是亟待解決的重要課題。尤其是在潮濕、腐蝕性環(huán)境中,金屬表面容易受到氧化和腐蝕,導致性能下降甚至報廢。針對這一問題,羽杰科技推出了鋼碳防銹劑,憑借其卓越的防銹性能和長久的防護效果,迅速成為市場上的熱門產品。本文將從多個角度詳細介紹羽杰科技碳鋼防銹劑的優(yōu)勢及其應用場景。

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光學掩膜版除膠清洗劑-羽杰科技

羽杰科技研發(fā)生產的光學掩膜版除膠清洗劑MLJ-2508D是一款專為光學掩膜版清除光刻膠,高精密光學及半導體行業(yè)設計的環(huán)保型清洗劑。產品采用創(chuàng)新配方,摒棄傳統(tǒng)清洗劑中常見的丙酮、強酸強堿等有害成分,以高效、安全、環(huán)保為核心優(yōu)勢,廣泛應用于光學掩膜版、芯片、半導體器件及精密光學玻璃的表面污染物清潔,助力客戶實現(xiàn)高質量生產與可持續(xù)發(fā)展目標。

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